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斯達(dá)半導(dǎo)創(chuàng)始人沈華曾言:“我們選擇碳化硅賽道,正是看到其蘊(yùn)含的顛覆性能量?!睆膶?shí)驗(yàn)室的晶體生長爐到疾馳的電動(dòng)汽車心臟,碳化硅的征途正契合著這個(gè)對能源效率極致追求的時(shí)代。它用材料科學(xué)的突破為電流賦予速度,以產(chǎn)業(yè)競合的激情重塑能源轉(zhuǎn)換的規(guī)則。
大會(huì)來襲
行業(yè)解讀
項(xiàng)目動(dòng)態(tài)
實(shí)力企業(yè)
技術(shù)突破
大咖分享
晶圓邊緣的缺陷挑戰(zhàn),值得重視!
俞寶清——《晶圓邊緣輪廓與缺陷檢測技術(shù)及裝備》報(bào)告。
破局SiC加工難題:CMP材料整體解決方案全解析
張澤芳-《碳化硅CMP材料的整體解決方案》報(bào)告。
大尺寸激光切片設(shè)備:未來8英寸SiC切片的核心設(shè)備
南京大學(xué)修向前教授--《大尺寸激光切片設(shè)備與工藝技術(shù)研究》報(bào)告。
液相法!P型4H-SiC單晶制備的關(guān)鍵路徑
李輝報(bào)告—《液相法生長立方碳化硅和P型碳化硅》。
SiC晶體外延生長的“奧秘”
西安交大陳雪江副教授—《SiC晶體外延生長微觀機(jī)理研究》
車用SiC功率器件技術(shù)與市場前景探討
安徽芯塔電子科技有限公司高級(jí)市場經(jīng)理周駿峰將帶來《車用SiC功率器件技術(shù)與市場前景探討》的報(bào)告。
液相法:碳化硅晶體生長的“破局者”
液相法碳化硅晶體生長態(tài)勢及產(chǎn)業(yè)化。
求解|如何抓住碳化硅襯底產(chǎn)業(yè)發(fā)展黃金期?
挑戰(zhàn)與機(jī)遇并存 ——碳化硅材料市場發(fā)展現(xiàn)狀及展望。
鍵合技術(shù):SiC襯底降本新技術(shù)!
青禾晶元半導(dǎo)體科技(集團(tuán))有限責(zé)任公司劉福超——?jiǎng)⒏3瑢怼冻妥杼蓟桄I合集成技術(shù)應(yīng)用與產(chǎn)業(yè)化》報(bào)告。
解決方案
碳化硅單晶片SiC
硅早已是大多數(shù)電子應(yīng)用中的關(guān)鍵半導(dǎo)體材料,但與碳化硅(SiC)晶片相比,則顯得效率低下。碳化硅晶片現(xiàn)在已開始被多種應(yīng)用采納,特別是電動(dòng)汽車,以應(yīng)對開發(fā)高效率和高功率器件所面臨的能源和成本挑戰(zhàn).碳化硅晶片由純硅和碳組成,與硅相比具有三大優(yōu)勢:更高的臨界雪崩擊穿場強(qiáng)、更大的導(dǎo)熱系數(shù)和更寬的禁帶。碳化硅晶
2~6英寸高純半絕緣碳化硅單晶襯底
全球?qū)捊麕О雽?dǎo)體材料及器件正處于快速發(fā)展期,產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于5G通信、軌道交通、新能源汽車及充電樁、新能源、儲(chǔ)能、大數(shù)據(jù)中心、工控等下游領(lǐng)域。其中,半絕緣型碳化硅襯底主要應(yīng)用于5G通信、雷達(dá)系統(tǒng)、導(dǎo)引頭、衛(wèi)星通信、戰(zhàn)機(jī)等領(lǐng)域,具有提升射頻范圍、超遠(yuǎn)距離識(shí)別、抗干擾以及高速、大容量信息傳遞等應(yīng)用優(yōu)勢,被
碳化硅單晶生長爐
碳化硅單晶生長爐產(chǎn)品優(yōu)勢高度自動(dòng)化程序,減少人工操作能靈活改動(dòng)溫場,滿足晶體長大、長快、長厚要求內(nèi)置感應(yīng)線圈,提高耦合效率,更低能耗金屬真空腔室,更安全耐用產(chǎn)品概述天科合達(dá)目前已經(jīng)開發(fā)出了第五代SiC單晶生長爐,該生長爐為我司自主研發(fā)設(shè)計(jì)制造。爐體采用單室立式雙層水冷不銹鋼結(jié)構(gòu),爐子整體結(jié)構(gòu)由真空系
JSSD系列感應(yīng)加熱PVT碳化硅單晶爐
◆設(shè)備采用模塊化結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì),可方便切換晶體生長尺寸和石英腔室冷卻方式;◆全金屬密封結(jié)構(gòu)可以降低漏率;◆旋轉(zhuǎn)液動(dòng)力的冷卻方式提升了冷卻均勻性;◆高精度控溫控壓及遠(yuǎn)程監(jiān)控技術(shù)進(jìn)一步提升了設(shè)備自動(dòng)化程度。
4H-導(dǎo)電型碳化硅單晶襯底
天岳先進(jìn)不斷追求更高的晶體質(zhì)量和加工質(zhì)量更好的滿足客戶的需求目前可批量供應(yīng)6英寸產(chǎn)品8英寸產(chǎn)品正在研發(fā)中基本信息導(dǎo)電型晶型4H直徑(mm)150偏角(°)4厚度(μm)350表面狀態(tài)Epi-ready
碳化硅單晶爐
碳化硅單晶爐PVT碳化硅SiC單晶爐主要用于6英寸碳化硅SiC單晶材料的生長,碳化硅具有高臨界擊穿電場、高電子遷移率的優(yōu)勢,是制造高壓、高溫、抗輻照功率半導(dǎo)體器件的優(yōu)良半導(dǎo)體材料,也是目前綜合性能最好、商品化程度最高、技術(shù)最成熟的第三代半導(dǎo)體材料。第三代功率半導(dǎo)體器件已經(jīng)在智能電網(wǎng)、電動(dòng)汽車、軌道交
高純半絕緣碳化硅單晶
我公司提供4寸、6寸高純半絕緣碳化硅單晶,可根據(jù)客戶需求的具體參數(shù)定制,包括尺寸要求和缺陷參數(shù)等,具體要求請與我公司銷售部門聯(lián)系。
碳化硅單晶生長原料
根據(jù)客戶生產(chǎn)的碳化硅晶體類型,可以提供原材料的定制服務(wù),晶體原材料的規(guī)格和技術(shù)要求,請與我公司銷售部門聯(lián)系。
高純碳化硅粉
高純碳化硅粉一、產(chǎn)品簡介:通過自主研發(fā)的碳化硅原料提純工藝,可在氣氛中對碳化硅進(jìn)行升華、冷凝、提純,能有效降低原料粉末中的雜質(zhì),通過工藝條件的調(diào)整,將3N的原料提純至5N、6N不同級(jí)別的碳化硅粉料產(chǎn)品。二、產(chǎn)品參數(shù):規(guī)格:3N(99.9%)、5N(99.999%)、6N(99.9999%)粒徑:10
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