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磁控濺射設備的主要用途：

1.功能性薄膜：具有吸收、透射、反射、折射、偏光等作用的薄膜；

2.裝飾領域：各種全反射膜及半透明膜等；

3.微電子領域：在微電子領域作為一種非熱式鍍膜技術，主要應用在化學氣相沉積（CVD）或金屬有機物。

4.光學領域：增透膜、低輻射玻璃和透明導電玻璃等方面得到應用。特別是在透明導電玻璃廣泛應用于平板顯示器件、太陽能電池、微波與射頻屏蔽裝置與器件、傳感器等。

5.機械加工領域：在機械加工行業中，表面功能膜、超硬膜，自潤滑薄膜，能有效提高表面硬度、復合韌性、耐磨損性和抗高溫化學穩定性能，從而大幅度地提高涂層產品的使用壽命。

磁控濺射除上述已被大量應用的領域，還在高溫超導模、鐵電體薄膜、巨磁阻薄膜、薄膜發光材料、太陽能電池、記憶合金薄膜研究方面發揮重要作用。