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高真空磁控濺射鍍膜設備JCP200
報價：面議
| 品牌： | 北京泰科諾 |
| 產地： | 北京 |
| 關注度： | 1245 |
| 型號： | 高真空磁控濺射鍍膜設備JCP200 |
產品介紹
設備型號： JCP200
真空腔室結構： 立式上開蓋結構
真空腔室尺寸： Φ220mm×H300mm
加熱溫度： 室溫～ 500℃
基片臺尺寸： Φ100mm
膜厚不均勻性： Φ50mm 范圍內≤ ±5.0%
濺射靶： Φ2 英寸磁控靶 1 支 兼容 DC/RF 濺射
工藝氣體 ：1-2 路氣體流量控制
控制方式 ：PLC + 觸摸屏控制
占地面積 （主機） ：L600mm×W800mm×H1700mm
總功率 ：≥ 6kW
問商家
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北京泰科諾科技有限公司為您提供北京泰科諾高真空磁控濺射鍍膜設備JCP200，高真空磁控濺射鍍膜設備JCP200產地為北京，屬于專用設備，除了高真空磁控濺射鍍膜設備JCP200的參數、價格、型號、原理等信息外，還可為您提供真空電弧爐VDK250、熱絲CVD金剛石膜沉積設備HF1200、高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500,泰科諾客服電話400-810-0069轉4101，售前、售后均可聯系。
工商信息
企業名稱
北京泰科諾科技有限公司
企業類型
信用代碼
9111011475217349XB
法人代表
注冊地址
成立日期
注冊資本
有效期限
經營范圍
