鉆石會員
已認證
熱絲CVD采用高溫下的低壓氣相反應，碳氫化合物在高溫下發生化學反應，生成膜先驅物，當樣品溫度合適時，這些膜先驅物在樣品表面沉積形成金剛砂膜。低壓化學氣相沉積形成的膜層厚度及成分較為均勻，膜層致密。
CVD化學氣相沉積的基本特征為:
1.產生化學變化(化學反應或熱分解);
2.膜中所有材料都來源于外部的源;
3.反應物必須以氣相形式參與反應
化學氣相沉積是以化學反應方式制作薄膜。其原理是將含有制膜材料的反應氣體通到基片上，在基片上發生化學反應形成薄膜，對CVD薄膜生成過程，可以定性地歸結為：反應氣體通到基片上后，反應氣體分子被基片表面吸附，并在基片表面上產生化學反應，形成核，然后反應生成物脫離基片表面，并沿基片表面不斷擴散形成薄膜。
1.真空系統：國產優質真空泵和閥門管道。極限真空1pa以下；
2.真空測量：國產優質電阻規（0.1-105pa）和薄膜規（13-13300pa）。測量精度高，重復性好；
3.氣體流量控制：國產流量計。氫氣流量2000ml/min，甲烷流量100ml/min。氫氣流量50ml（摻硼用）。可根據要求定制流量計。
4.壓控系統：壓控范圍0.5-6kpa。控制精度±10pa。
5.熱絲電源：國產優質直流電源。根據鍍膜產品客戶選型號的電源。電源控制精度±10w。
6.控制程序：公司自主開發的鍍膜程序。可實現一鍵鍍膜功能。程序對水壓，水流，水溫，氣壓等參數進行監控和判斷，超過報警值后，程序會停機保護設備。
熱絲CVD設備應用領域
熱絲cvd金剛石沉積技術適合制備金剛石厚膜和涂層。相較于直流電弧cvd和微波等離子體cvd技術，熱絲CVD技術制備的金剛石膜透明性不足，但是該技術鍍膜面積大，單爐產量多；設備結構簡單，穩定，適合自動化生產。
目前熱絲cvd設備可在硬質合金刀具、硅、鈮、鉭、碳化硅、等材料上鍍金剛石膜。
金剛石涂層刀具應用于空航天、新能源、電子電路，精密加工領域，可用于石墨模具，石墨極板，陶瓷牙齒，5G線路板，鋁合金，碳纖維等的加工制造。
碳化硅上沉積金剛石膜用于提高器件的耐磨性，延長使用時間。用于易磨損的模具、動密封件。
摻硼導電金剛石膜常鍍在硅、鈮、鉭材料上。利用金剛石的高氧化電位、耐酸堿腐蝕等特點，氧化液體中的有害物質，檢測液體成分。應用于污水處理，水質凈化，生物檢測等領域。
