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高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500重點
報價:面議
品牌: 北京泰科諾
產地: 北京
關注度: 1381
型號: 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500
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產品介紹

設備型號:JCPY500 

真空腔室結構:后置抽氣系統

真空腔室尺寸:Φ500mm×H450mm帶 Load-Lock 功能 支持單片或多片進取樣

加熱溫度 :室溫~ 500℃

基片臺尺寸:Φ150mm

膜厚不均勻性 :Φ100mm 范圍內≤ ±5.0%

濺射靶 :Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支(可選)

工藝氣體 :3 路氣體流量控制

控制方式 : PLC/PC(可選)

占地面積 (主機) :L1800mm×W800mm×H1845mm

總功率 :≥ 15kW

適用范圍.jpg


大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備


特點用途.jpg


1. 可提供工藝技術支持,及良好售后服務;

2. 設備結構緊湊,占地面積小,性價比高,性能穩定,使用維護成本低;

3. 單靶濺射 / 多靶依次濺射或共同濺射,兼容 DC/MF/RF 濺射等功能 。

4. 可制備單層及多層金屬膜、介質膜、半導體膜、耐熱合金膜、硬質膜、耐腐蝕摸、透明導電膜,如鈣鈦礦空穴傳輸層、金屬電極以及透明導電層ITO膜層的制備等”;



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工商信息
企業名稱

北京泰科諾科技有限公司

企業類型

信用代碼

9111011475217349XB

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