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高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500重點
報價:面議
品牌: | 北京泰科諾 |
產地: | 北京 |
關注度: | 1381 |
型號: | 高真空磁控濺射鍍膜設備JCPY500 |
產品介紹
設備型號:JCPY500
真空腔室結構:后置抽氣系統
真空腔室尺寸:Φ500mm×H450mm帶 Load-Lock 功能 支持單片或多片進取樣
加熱溫度 :室溫~ 500℃
基片臺尺寸:Φ150mm
膜厚不均勻性 :Φ100mm 范圍內≤ ±5.0%
濺射靶 :Φ3、Φ4 英寸磁控靶 2-4 支(可選)
工藝氣體 :3 路氣體流量控制
控制方式 : PLC/PC(可選)
占地面積 (主機) :L1800mm×W800mm×H1845mm
總功率 :≥ 15kW
大專院校、科研院所及企業進行薄膜新材料的科研與小批量制備
1. 可提供工藝技術支持,及良好售后服務;
2. 設備結構緊湊,占地面積小,性價比高,性能穩定,使用維護成本低;
3. 單靶濺射 / 多靶依次濺射或共同濺射,兼容 DC/MF/RF 濺射等功能 。
4. 可制備單層及多層金屬膜、介質膜、半導體膜、耐熱合金膜、硬質膜、耐腐蝕摸、透明導電膜,如鈣鈦礦空穴傳輸層、金屬電極以及透明導電層ITO膜層的制備等”;
問商家
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工商信息
企業名稱
北京泰科諾科技有限公司
企業類型
信用代碼
9111011475217349XB
法人代表
注冊地址
成立日期
注冊資本
有效期限
經營范圍