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品牌: | Microtrac-BEL |
產地: | 日本 |
關注度: | 445 |
型號: | Nanotrac Wave Ⅱ |
測量范圍:300
誤差率:不限
分辨率:400
重現性:300
儀器原理:動態光散射
分散方式:100
測量時間:不限

動態光背散射技術:采用先進的動態光背散射技術,結合全量程米氏理論處理,可準確測量粒徑范圍為0.3nm-10μm的納米顆粒。
微電場分析技術:融納米顆粒粒度分布與Zeta電位測量于一體,無需傳統的比色皿,一次進樣即可得到準確的粒度分布和Zeta電位分析數據。
異相多譜勒頻移技術:獲得的光信號強度較傳統方法高出幾個數量級,提高分析結果的可靠性。
快速傅利葉變換算法:迅速處理檢測系統獲得的能譜,縮短分析時間。
獨特的光學系統設計
“Y”型光纖探針光路設計:通過藍寶石測量窗口,直接測量懸浮體系中的顆粒粒度分布,在加載電流的情況下,與膜電極對應產生微電場,測量同一體系的Zeta電位,避免樣品交叉污染與濃度變化。
超短散射光程設計:減少了多重散射現象的干擾,保證高濃度溶液中納米顆粒測試的準確性。
高精度與高靈敏度
激光放大檢測方法:信噪比是其他DLS方法的106倍,如光子相關光譜(PCS)和納米跟蹤(NT),不受樣品中污染物造成的信號失真影響。
可控參比方法(CRM):能精細分析多譜勒頻移產生的能譜,確保分析的靈敏度。
高精度測量:粒度分析范圍寬,重現性誤差≤1%,濃度范圍廣(100ppb-40%w/v),測量精度高,無需預選,依據實際測量結果,自動生成單峰/多峰分布結果。
操作簡便與高效
無需復雜設備:無需比色皿、毛細管電泳池或外加電池,僅需點擊Zeta電位操作鍵,一分鐘內即可得到分析結果。
消除多種干擾:完全消除由于空間位阻(不同光學元器件間的傳輸損失,比色皿器壁的折射和污染,比色皿位置的差異,分散介質的影響,顆粒間多重散射等)帶來的光學信號的損失,提高靈敏度。
強大的軟件系統
FLEX軟件:提供強大的數據處理能力,包括圖形、數據輸出/輸入、個性化輸出報告,及各種文字處理功能,如PDF格式輸出、Internet共享數據、Microsoft Access格式(OLE)等。數據的完整性符合21 CFR PART 11要求。
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