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單壁碳管漿料高速分散機，碳納米管復合材料研磨分散機，單壁碳納米管高速研磨分散機，碳納米管復合材料高剪切研磨分散機，德國進口研磨分散機，IKN研磨分散機，管線式研磨分散機，中試型研磨分散機

IKN研磨分散機設計特點，能夠延長易損件的使用時間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機多用，也可以單使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進行調整。

碳納米管復合材料

（1）導電塑料(聚脂)。將碳納米管均勻地擴散到塑料中,可獲得強度更高并具有導電性能的塑料?？捎糜陟o電噴涂和靜電消除材料,目前汽車的塑料零件由于采用了這種材料,可用普通塑料取代原用的工程塑料,簡化制造工藝,降低了成本,并獲得形狀更復雜、強度更高、表面更美觀的塑料零部件。是靜電噴涂塑料(聚脂)的發展方向。同時由于碳納米管復合材料具有良好的導電性能,不會象絕緣塑料產生靜電堆積,因此是用于靜電消除、晶片加工、磁盤制造及潔凈空間等領域的理想材料。碳納米管還有靜電屏蔽功能,由于電子設備外殼可消除外部靜電對設備的干擾,電子設備正常工作。

（2）電磁干擾屏蔽材料及隱形材料。由于特殊的結構和介電性質,碳納米管表現出較強的寬帶微波吸收性能,它同時還具有重量輕、導電性可調變、高溫抗氧化性能強和穩定性好等特點,是一種有前途的理想的微波吸收劑,可用于隱形材料、電磁屏蔽材料或暗室吸波材料。碳納米管將用于制造具有電磁功能及吸收電磁波功能的隱形材料。

上海依肯的研磨分散機特別適合于需要研磨分散均質的物料。研磨分散機為立式分體結構，精密的零部件配合運轉平穩，運行噪音在73DB以下。同時采用德國博格曼雙端面機械密封，并通冷媒對密封部分進行冷卻，把泄露概率降到低，機器連續24小時不停機運行。簡單的說就是將IKN/依肯膠體磨進行進一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級模塊，加入了分散盤?？筛鶕锪弦筮M行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶選擇） IKN研磨分散機可以高速研磨，分散，乳化，均質等功能，設備轉速可達14000rpm，是目前國內設備轉速的4-5倍。

行業內典型合作客戶包括成都某單位，沈陽某大學，為業內單壁碳管/碳納米管分散領域龍頭地位。

IKN單壁碳管漿料高速分散機

設備其它參數:

設備等級：化工級、衛生I級、衛生II級、無菌級

電機形式：普通馬達、變頻調速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、

電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ

電機選配件： PTC 熱保護、降噪型

研磨分散機材質：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷

研磨分散機選配：儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車

研磨分散機表面處理：拋光、耐磨處理

進出口聯結形式：法蘭、螺口、夾箍

研磨分散機選配容器：本設備適合于各種不同大小的容器

從設備角度來分析，影響研磨分散機效果因素有以下幾點：

1.研磨頭的形式（批次式和連續式）（連續式比批次式要好）

2.研磨頭的剪切速率，（越大效果越好）

3.研磨的齒形結構（分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好）

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間（可以看作同等電機，流量越小效果越好）

5.循環次數（越多效果越好，到設備的期限就不能再好了。）

線速度的計算：

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) = v 速率 (m/s)

g 定-轉子 間距 (m)

由上可知，剪切速率取決于以下因素：

轉子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉子-定子 間距。

IKN 定-轉子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm

速率V= 3.14 X D（轉子直徑）X 轉速 RPM / 60

所以轉速和分散頭結構是影響分散的一個重要因素，分散均質分散機的高轉速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是重要的

CMD2000系列研磨分散機設備選型表

型號 流量L/H 轉速rpm 線速度m/s 功率kw 入/出口連接DN

CMD2000/4 300 9000 23 2.2 DN25/DN15

CMD2000/5 1000 6000 23 7.5 DN40/DN32

CMD2000/10 2000 4200 23 22 DN80/DN65

CMD2000/20 5000 2850 23 37 DN80/DN65

CMD2000/30 8000 1420 23 55 DN150/DN125

CMD2000/50 15000 1100 23 110 DN200/DN150

流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性，可以被調節到大允許量的10%

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