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隨著現(xiàn)代觸控技術(shù)的不斷進(jìn)步，未來觸控面板將往大尺寸化、低價(jià)化，可彎曲折疊化方向發(fā)展。傳統(tǒng)ITO薄膜由于存在導(dǎo)電性差、成本昂貴、不可彎曲等本質(zhì)問題而發(fā)展受限。金屬網(wǎng)格工藝技術(shù)為大尺寸低電阻、窄邊框提供了有力技術(shù)支持，該技術(shù)可以將柔性觸控屏尺寸從智能手機(jī)的常用面板尺寸覆蓋到86英寸以上。采用金屬網(wǎng)格透明導(dǎo)電膜來替代ITO透明導(dǎo)電膜已成為未來趨勢(shì)。目前常用的金屬網(wǎng)格工藝是，通過顯影、蝕刻等工藝在PET膜上得到預(yù)留凹槽(寬度≤3μm)；再將導(dǎo)電銀漿刮涂入刻蝕的預(yù)留凹槽中，進(jìn)行低溫固化，形成金屬網(wǎng)格觸控電極及周邊引線，得到金屬網(wǎng)格電容式觸摸屏。該工藝方法由于工藝簡(jiǎn)單，成本低、透光性好，產(chǎn)品柔性高等優(yōu)勢(shì)，逐步成為觸摸屏柔性化、大尺寸、輕薄化發(fā)展的重要趨勢(shì)。

  在上述工藝技術(shù)中，銀漿是其核心原材料之一。觸摸屏導(dǎo)電銀漿，是一種高銀含量超細(xì)銀粉低溫導(dǎo)電銀漿，采用獨(dú)特的工藝將超細(xì)銀粉和高分子樹脂精研而成。為了達(dá)到高透明度、高導(dǎo)電率的要求，銀漿的電阻率要小，且填充于槽內(nèi)的銀漿經(jīng)過低溫固化后，必須與基材具有極佳的結(jié)合力和機(jī)械性能。目前常用三輥機(jī)來分散銀漿，但是顆粒細(xì)度比較大，分散性也不好，無法有效填充于3微米超細(xì)溝槽內(nèi)。另外，著色用的碳漿也存在上述問題。

       為了解決上述技術(shù)問題，我們提供了用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)，制作觸摸屏用銀漿和碳漿的方法。

1. TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)介紹：

TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)采用高壓噴射原理，能夠在短時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生巨大的剪切力，碰撞力，氣穴力，從而將大量能量集中作用于物料，使物料的成分以完全的均質(zhì)的狀態(tài)存在，能夠大幅提升效率。

TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)不堵不漏，采用10寸工業(yè)觸控屏，可實(shí)時(shí)監(jiān)控壓力曲線圖，最高壓力可達(dá)4000bar。

圖1 均質(zhì)機(jī)原理圖

圖2 TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)

2. 實(shí)驗(yàn)描述：

先用混料脫泡機(jī)預(yù)分散銀漿或碳漿，然后采用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)，均質(zhì)分散樣品，并研究不同均質(zhì)次數(shù)對(duì)漿料分散穩(wěn)定性的影響。分別采用LISICO分散均質(zhì)分析測(cè)試儀或LUMiSizer分散穩(wěn)定性分析儀，測(cè)試樣品的穩(wěn)定性。

3.實(shí)驗(yàn)過程及測(cè)試結(jié)果：

3.1．銀漿：

采用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)，將銀漿樣品在2500bar壓力下分別處理1至5遍。

圖3 用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)處理銀漿

采用LISICO分散均質(zhì)分析測(cè)試儀，測(cè)試均質(zhì)前后銀漿樣品的分散穩(wěn)定性，結(jié)果如圖5所示。

圖4 LISICO 分散均質(zhì)分析測(cè)試儀

由圖5可知，均質(zhì)1次后，銀漿樣品的弛豫時(shí)間有所增加，分散穩(wěn)定性變差；繼續(xù)均質(zhì)幾次，樣品的弛豫時(shí)間減小至均質(zhì)前的水平，表明其分散穩(wěn)定性變化不大。粒徑測(cè)試結(jié)果表明，均質(zhì)前的TDS-0樣品的D50粒徑為5微米；均質(zhì)4次后，TDS-4樣品的粒徑降至2.5微米。此外，電性能也較均質(zhì)前提高10%左右。

圖5均質(zhì)前后銀漿樣品的弛豫時(shí)間

此外我們也采用LUMiSizer分散穩(wěn)定性分析儀，測(cè)試銀漿樣品的穩(wěn)定性，結(jié)果如圖7所示。

圖6 LUMiSizer穩(wěn)定性分析儀（測(cè)試條件：4000 g，16h，25℃）

圖7 均質(zhì)前后銀漿樣品的不穩(wěn)定性指數(shù)對(duì)比

采用STEP技術(shù)，可以定量分析穩(wěn)定性，得出每個(gè)樣品的“不穩(wěn)定性指數(shù)”。不穩(wěn)定性指數(shù)越小，表明體系越穩(wěn)定。由銀漿樣品的不穩(wěn)定指數(shù)柱狀圖可知，就實(shí)驗(yàn)全過程來看，樣品的不穩(wěn)定性順序依次為：TDS-4<TDS-0=TDS-1<TDS-5<TDS-3<TDS-2,其中TDS-4樣品最穩(wěn)定。

3.2．碳漿：

采用TRILOS超高壓納米均質(zhì)機(jī)，將碳漿樣品在2500bar壓力下分別處理1至5遍。

圖8均質(zhì)前后碳漿樣品的弛豫時(shí)間

由圖8可知，均質(zhì)1次后，碳漿樣品的弛豫時(shí)間大幅減小，分散穩(wěn)定性變好；繼續(xù)均質(zhì)幾次，碳漿樣品的弛豫時(shí)間與均質(zhì)前相當(dāng)。表明均質(zhì)次數(shù)不能過多，否則對(duì)分散穩(wěn)定性有不利的影響。

4.  結(jié)論：

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